لایه نشانی به روش PVD

نام دستگاه: لایه نشانی فیزیکی بخار (PVD)

نام انگلیسی: Physical Vapor Deposition

شرکت سازنده: یارنیکان صالح

کشور سازنده: ایران??

مدل دستگاه‌: DS&TE&CA401

مشخصات فنی:

- فشار نهایی محفظه:5*10-5

- انجام فرآیند تخلیه و لایه نشانی به صورت کنترل شده

- گرم کردن محفظه توسط سیستم تابشی تا 150 درجه دمای سانتیگرد

- خواندن نرخ و ضخامت لایه با دقت 2 انگستروم

- امکان چرخش نگه دارنده زیر لایه

- خنک سازی زیر لایه ها هنگام لایه نشانی

- دارای دو مسیر تخلیه سامانه –مسیرمستقیم و پشتی (Roughing & Backing)

الف-لایه نشانی به روش کندوپاش DC Sputtering Deposition

در این روش کاتد مگنترونی جهت کندوپاش تارگت های رسانا به منبع ولتاژ بالا از نوع DC  متصل شده و با ورود کنترل شده گاز آرگون و تشکیل پلاسما، لایه نشانی انجام می شود. قابلیت نصب تارگت به ابعاد 2 اینچ برای منبع اسپاترینگ وجود دارد.

ب-لایه نشانی به روش تبخیر حرارتی Thermal Evaporation Deposition

برای ایجاد لایه های نازک مواد با نقطه ذوب پایین از روش تبخیر حرارتی استفاده می کنند. در این روش با استفاده از عبور جریان از یک المنت دما بالا می رود. به این ترتیب ماده ای که بر روی المنت قرار دارد تبخیر می شود.برای لایه نشانی موادی مانند کروم، سرب، طلا، آلومینیم و مس از سامانه لایه نشانی به روش تبخیر حرارتی استفاده می شود.

ج- لایه نشانی به روش قوس الکتریکیcathodic arc evaporation

در لایه نشانی به روش قوس الکتریکی در محیط خلاء بین دو الکترود (آند وکاتد) تخلیه الکتریکی اتفاق می افتد. بعد از برقراری جریان بالا (بیش از 60آمپر)، سطح تارگت یونیزه شده و اتم­های یونیزه به سمت زیرلایه حرکت می­کند و لایه تشکیل می شود

قابلیت های دستگاه:

- لایه نشانی به روش اسپاترینگ با انواع تارگت های رسانا و با ضخامت های در محدوده نانومتر و میکرومتر

- استفاده از گازهای واکنشی مانند نیتروژن جهت تشکیل لایه های نیتریدی

شرایط نمونه های آزمون:

- ایجاد پوشش های ظریف با ضخامت های یکنواخت روی گستره ای از زیرلایه ها با جنس های متفاوت از فولاد تا پلاستیک