آنالیز شیمیایی پایه آهن به روش کوانتومتری (اسپکترومتری نشری) |
لایه نشانی به روش PVD |
مدلسازی ابر نقاط اسکن |
سرعت سنجی تصویری ذرات (Particle Image Velocimetry (PIV |
|
---|---|---|---|---|
قیمت |
2,000,000 ﷼ |
1,700,000 ﷼ |
100,000 ﷼ |
10,000,000 ﷼ |
توضیح کوتاه | ||||
توضیحات |
مدل دستگاه: Foundry Master Pro شرکت سازنده: Hitachi High Tech کشور سازنده: آلمان
مشخصات فنی: دستگاه کوانتومتر از جمله سیستمهای آنالیز دقیق برای فلزات و تجزیه آلیاژها می باشد. اساس کار آین آزمون بر مبنای نشر نوری می باشد. دراین روش سطح آماده سازی شده نمونه تحت یک شرایط ولتاژ بالا برانگیخته می گردد. که موجب تولید نور با طول موج معین از اتم های موجود در عناصر مختلف می شود. با انداه گیری این طول موج نشر شده، غلظت عناصر موجود در نمونه تعیین می شود.. این دستگاه موجود در آزمایشگاه مرکزی دانشگاه صنعتی امیرکبیر قادر به تعیین غلظت عناصر پایه آهن، آلومینیوم، مس، روی، نیکل، تیتانیوم، کبالت، قلع با 45 برنامه کاری می باشد. لازم به ذکر است این دستگاه با 14 آشکار ساز دارای قابلیت اندازه گیری در محدوده طول موج 800-130 نانومتر را می باشد.
قابلیت های دستگاه: - اندازه گیری 30 عنصر در پایه آهن مانند عناصر C, Si, Mn, P, S, Cr, Mo, Ni, Al, Co, Cu, Nb, Ti, V, W, Zr, As, Sn, B, Ca, Pb, Mg, Bi, Zn, N, Te, Sd, Ce, La, Se.
شرایط نمونه های آزمون: نمونه ها با حداقل سایز یک سانتی متر مکعب با سطح صاف قابل انجام آزمون می باشد. جهت بررسی نمونه های با سایزهای بزرگتر با کارشناس آزمایشگاه هماهنگی لازم را به عمل آورید.
لازم به ذکر است نمونه ها پس از انجام آزمون به مدت یک ماه در آزمایشگاه نگهداری می شود.
"هزینه این خدمت براساس تعداد نمونه آزمون محاسبه می گردد." |
نام دستگاه: لایه نشانی فیزیکی بخار (PVD) نام انگلیسی: Physical Vapor Deposition شرکت سازنده: یارنیکان صالح کشور سازنده: ایران?? مدل دستگاه: DS&TE&CA401
مشخصات فنی: - فشار نهایی محفظه:5*10-5 - انجام فرآیند تخلیه و لایه نشانی به صورت کنترل شده - گرم کردن محفظه توسط سیستم تابشی تا 150 درجه دمای سانتیگرد - خواندن نرخ و ضخامت لایه با دقت 2 انگستروم - امکان چرخش نگه دارنده زیر لایه - خنک سازی زیر لایه ها هنگام لایه نشانی - دارای دو مسیر تخلیه سامانه –مسیرمستقیم و پشتی (Roughing & Backing)
الف-لایه نشانی به روش کندوپاش DC Sputtering Deposition در این روش کاتد مگنترونی جهت کندوپاش تارگت های رسانا به منبع ولتاژ بالا از نوع DC متصل شده و با ورود کنترل شده گاز آرگون و تشکیل پلاسما، لایه نشانی انجام می شود. قابلیت نصب تارگت به ابعاد 2 اینچ برای منبع اسپاترینگ وجود دارد. ب-لایه نشانی به روش تبخیر حرارتی Thermal Evaporation Deposition برای ایجاد لایه های نازک مواد با نقطه ذوب پایین از روش تبخیر حرارتی استفاده می کنند. در این روش با استفاده از عبور جریان از یک المنت دما بالا می رود. به این ترتیب ماده ای که بر روی المنت قرار دارد تبخیر می شود.برای لایه نشانی موادی مانند کروم، سرب، طلا، آلومینیم و مس از سامانه لایه نشانی به روش تبخیر حرارتی استفاده می شود. ج- لایه نشانی به روش قوس الکتریکیcathodic arc evaporation در لایه نشانی به روش قوس الکتریکی در محیط خلاء بین دو الکترود (آند وکاتد) تخلیه الکتریکی اتفاق می افتد. بعد از برقراری جریان بالا (بیش از 60آمپر)، سطح تارگت یونیزه شده و اتمهای یونیزه به سمت زیرلایه حرکت میکند و لایه تشکیل می شود
قابلیت های دستگاه: - لایه نشانی به روش اسپاترینگ با انواع تارگت های رسانا و با ضخامت های در محدوده نانومتر و میکرومتر - استفاده از گازهای واکنشی مانند نیتروژن جهت تشکیل لایه های نیتریدی
شرایط نمونه های آزمون: - ایجاد پوشش های ظریف با ضخامت های یکنواخت روی گستره ای از زیرلایه ها با جنس های متفاوت از فولاد تا پلاستیک
|